光刻机到底难在哪里 它有什么特点

光刻机到底难在哪里 它有什么特点

1.难在它的制造精度,为了便于形象地解释,光刻机制造芯片的过程就相当于“冲洗照片”。设计好的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄的内容”,晶圆就相当于“相纸”,光刻机的其它机构就相当于与照相机的“镜头机构”。

2.不同的是洗照片是将照片放大呈现到相纸上,制造芯片是将设计的集成电路微缩到晶圆上拇指大小的区域内,而且电路的投影精度达到了纳米量级。

3.光刻机的加工过程,光刻机技术发展已经发展到了紫外光阶段,我们就以紫外光为例说明。光刻机加工芯片的过程简单地讲就是,光源提供的紫外光照射到刻着电路设计图的掩模板上,紫外光透过掩模板后进入物镜,物镜将掩模板上的电路图大比例的缩小后,将电路投影到硅片上,这样硅片上就刻下设计好的电路图,这个过程中曝光台和测量台处于联动的状态。

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